Für schnelle und präzise Inspektionen

Die Nikon Corporation (Nikon) hat mit der Nexiv VMF-K-Serie ein Videomesssystem der nächsten Generation auf den Markt gebracht, das den steigenden Anforderungen bei der Inspektion von Halbleitern und elektronischen Komponenten gerecht wird. Darüber hinaus eröffnet die VMZ-K-Serie zahlreichen weiteren Branchen erhebliche Vorteile, darunter Advanced Packaging, Substratherstellung, Wafer-Inspektion und Probecard-Inspektion.

Da Halbleiter immer kleiner werden bzw. immer mehr Funktionen integriert werden, genießen Prüfverfahren für die Qualitätssicherung eine steigende Bedeutung. Die Nexiv VMF-K-Serie stellt sich dieser Herausforderung, indem sie stabile Messungen von Dimensionen im Mikron-Bereich ermöglicht und gleichzeitig den Durchsatz erheblich verbessert, was eine strenge Qualitätskontrolle bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen unterstützt.

Die neue Nexiv VMF-K-Serie besteht aus dem VMF-K3040 (ersetzt das VMZ-K3040) und dem VMF-K6555 (ersetzt das VMZ-K6555). Zu den wichtigsten Vorteilen der NEXIV VMF-K-Serie gehören:

• Verbesserter Messdurchsatz: Die VMF-K-Serie erreicht im Vergleich zum Vorgängermodell VMZ-K einen 1,5-mal höheren Messdurchsatz (gemäß den Standard-Messbedingungen von Nikon), wodurch sich die Messzeit erheblich verkürzt und die Produktivität gesteigert wird.
• Fortschrittliche Optik: Die VMF-K-Serie ist mit einem konfokalen optischen System ausgestattet und ermöglicht die gleichzeitige 2D- und Höhenmessung innerhalb des Sichtfelds, wodurch ein deutlich höherer Durchsatz im Vergleich zur Höhenmessung nur mit Hellfeld-Bildern erzielt wird.
• Verbesserte Lichtquelle: Anstelle einer Xenonlampe wird nun eine LED als konfokale Lichtquelle verwendet, welche die Lebensdauer von 3.000 auf 30.000 Stunden erhöht. Diese Verbesserung steigert die betriebliche Effizienz und reduziert den Bedarf für den Austausch von Lampen.
• Erweiterte Modellpalette: Die Serie umfasst nun ein standardisiertes 45x-Objektivmodell, das die Anforderungen fortschrittlicher Halbleitermessungen für noch genauere Messungen unterstützt.
• SEMI S2/S8-Konformität: Die VMF-K-Serie erfüllt die Sicherheitsstandards für Halbleiterfertigungsanlagen, sofern sie in Übereinstimmung mit den SEMI S2/S8-Richtlinien installiert wird.
• Neue Softwarefunktion: Die Serie ermöglicht die Anzeige der verbleibenden Zeit während der Messung.
• Neues Außendesign: Die VMF-K-Serie zeichnet sich durch ein modernes Factory Design in Schwarz- und Silbertönen aus.

 „Wir freuen uns, mit der Nexiv VMF-K-Serie eine branchenführende Lösung vorstellen zu können, die den wachsenden Bedarf an schnellen und präziseren Messungen in der Halbleiter- und Komponentenfertigung abdeckt“, fasst eine Pressesprecherin von Nikon zusammen. „Durch die deutliche Verbesserung des Messdurchsatzes und der Beibehaltung der hohen Genauigkeit ermöglicht unser neues System den Anwendern, ihre Qualitätskontrollprozesse zu verbessern und die Produktentwicklung mit Blick auf die zunehmende Miniaturisierung und Integration von Halbleiterbauelementen zu beschleunigen.“